纯度

5N—7n

形态

Φ3*3，Φ3*10，φ6*6，φ6*10（可根据客户要求定做）

简介

广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域，包括直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。